業種 |
半導体・電子部品・その他
精密機器/商社(電機・電子・半導体)/その他製造/その他商社
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本社 |
東京
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日本真空光学株式会社は、光学薄膜専門メーカーとして創業以来、薄膜設計技術、コーティング技術、プロセス制御技術を3本柱に、独自の技術力を発揮し続けています。UVからIRに至る幅広い波長領域をカバーし、医療、計測、映像、露光などさまざまな光学応用分野でのコーティングプロセスを提供。お客さまのニーズに応じた製品を開発し、社会に貢献しています。
当社の企業理念は、「人びとの生活を光で豊かにする」です。この理念のもと、光学薄膜技術を生かし、社会に革新をもたらす製品を提供しています。1946年の創業以来、家電、バイオ、宇宙開発など幅広い分野での光技術の応用を追求。最新技術の導入と柔軟な対応力により、お客さまの多様なニーズに応じた製品を開発し続けています。わが社の技術の3本柱である薄膜設計、コーティング、プロセス制御を駆使し、高い技術力と品質を誇る製品を提供。AGCグループとしての信頼と実績を持ち、世界の最先端技術に目を向けながら、新たな価値の創造に挑戦しています。
当社では、光学技術を駆使した薄膜製品の開発と製造に力を入れています。技術者は、反射防止膜やフィルターなどの製品開発に携わり、何度も試行錯誤しながらお客さまの求める仕様や品質を実現。研究開発から製造までの各工程で、新しい技術や市場のニーズに応じた改善に取り組むことが多く、日々挑戦と充実感のある仕事に従事しています。具体的には、薄膜設計、コーティング技術、プロセス制御技術の3本柱を基に、最先端の設備と技術を駆使して製品を開発。これにより、幅広い分野での光学応用に対応できる製品を提供しています。製品の品質向上と新しいソリューションの開発に日々取り組み、光技術の可能性を追求しています。
当社には最先端の技術に対応した設備が整っています。最新の研究施設や製造ラインが完備され、技術者が効率よく業務に専念できるよう配慮。これにより社員は安心して仕事に取り組むことができます。また、職場内ではチームワークが大切にされており、社員同士が互いにサポート。日々の業務では、各チームが連携してプロジェクトに取り組み、それぞれの役割を果たしています。さらに、スキルアップ研修やキャリア開発プログラムが充実。社員が成長し続けることができる環境が整っています。働きやすさと成長の両立を実現する職場として、社員が高いモチベーションで業務に取り組むことができる点が大きな魅力です。
事業内容 | 薄膜加工法による各種光学用部品の製造並びに販売
他社製品の販売及び開発受託業務 |
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設立 | 1960年10月21日(昭和35年) |
資本金 | 2億1000万円 |
従業員数 | 119名 |
売上高 | 19億8500万円(2023年度) |
代表者 | 代表取締役 和田賢憲 |
事業所 | ■本社
東京都千代田区丸ノ内1-5-1 新丸ノ内ビルディング ■御殿場工場 静岡県御殿場市中畑1413 |
沿革 | 1946年/昭和21年 神奈川県逗子市に「薄膜技術研究所」を創業。国内における「レンズコーティングの企業化」の先駆けとなる。
1952年/昭和27年 「(株)湘南光膜研究所」と改称し、品川区戸越に移転。 1960年/昭和35年 「(株)湘南光膜研究所」より多層薄膜部門を分離。「日本真空光学(株)」として発足。 1961年/昭和36年 新技術事業団より「多層薄膜光学製品」の開発委託を受け、新工場を東京都品川区戸越に建設。開発を開始。 1963年/昭和38年 「多層薄膜光学製品」の開発完了。開発審議会より開発成功の認定を受け、企業化に移行。東京通商産業局より「遮光眼鏡レンズ」の試作に対し、中小企業輸出振興試作奨励費補助金を受ける。 1964年/昭和39年 資本金200万円に増資。工業技術院所有の「光電式蒸着膜厚を観測する方法」の特許実施権を受け、「光電式膜厚監視装置」の製造を開始。 1969年/昭和44年 資本金500万円に増資。静岡県御殿場市中畑に新工場を建設。新技術開発財団より、「完全反射防止膜の製造技術」開発のため、技術開発費を受ける。 1971年/昭和46年 資本金1,000万円に増資。東京通商産業局より「高性能レーザーミラー」の試作に対し、技術改善費補助金を受ける。 1977年/昭和52年 資本金2,000万円に増資。御殿場工場を増設。東京通商産業局より「エキシマレーザー反射鏡」の研究に対し、技術改善費補助金を受ける。 1979年/昭和54年 資本金3,000万円に増資。新技術事業団より、干渉薄膜応用製品に関する「高周波イオンプレーティング技術」の適用実施権を得る。 1980年/昭和55年 東京通商産業局より、「高耐久性深型コールド・ミラーの試作」に対し、技術改善費補助金を受ける。 1983年/昭和58年 資本金4,000万円に増資。大阪営業所開設。御殿場第二工場開設。 1985年/昭和60年 高周波プラズマ・イオン・プロセス技術を開発。 1986年/昭和61年 資本金6,000万円に増資。三重県久居市に関連会社「伊勢真空光学(株)」を設立。 1987年/昭和62年 資本金7,000万円に増資。 1989年/平成元年 伊勢真空光学(株)の工場を増設。 1992年/平成04年 AGCグループ傘下に入る。 1996年/平成08年 御殿場工場を増改築し、御殿場第二工場を統合。 1998年/平成10年 伊勢真空光学(株)を吸収合併し、三重工場とする。資本金21,000万円に増資。 2003年/平成15年 タイ・イワキガラスCo Ltd.へ生産を展開。 2004年/平成16年 ISO 9001, 2000 UKAS の認証取得。 2006年/平成18年 ISO 14001, 2004 UKAS の認証取得。 2007年/平成19年 新技術センター<クリーンルーム仕様>竣工。 |
ホームページ | https://www.ocj.co.jp/ |