長年にわたって培ってきた高度な分散技術をもとに、印刷インキ用添加剤やトーニング剤、電子写真用顔料のマスターバッチ、情報機器用の記録素材などを手掛ける化成品メーカーです。1960年に森村商事株式会社と外資系企業との合弁会社として設立され、現在は森村商事株式会社の100%子会社となりました。各種微粒子やPFOA対応PTFEパウダー、化粧品向けWAX分散体開発など、安定した経営基盤のもとで新たな挑戦を続けています。
1960年に設立された当初、当社が主に手掛けていたのは、墨インキの黒さや漆黒性を表現するための墨インキ補色剤のアルカリブルーです。インキメーカーにアルカリブルーをトーニング剤として愛用いただいたことで発展してきました。その後、長年にわたって培ってきた顔料などの素材をミクロ粒子やナノ粒子に分散する高度な技術を活用し、印刷インキ用添加剤や電子写真用顔料のマスターバッチなどを開発し、新たな主力製品になりました。PFOA対応PTFEパウダーや化粧品向けWAX分散体など、今後も当社技術を活かした新製品の開発を積極的に手掛けていきます。
取引先企業の海外進出に伴って輸出を行うほか、海外の企業から直接引き合いをいただくケースも年々増加しています。輸出の増加は、当社の売上に大きく貢献するまでになりました。海外の企業に対しても、国内の企業と同様の営業活動を行うことで販路を拡大するとともに、技術交流によって新たな製品開発に活かしています。
森村グループの一員として地球の環境保全に貢献していくため、環境負荷の低減に努めている当社。2008年には環境マネジメントシステム「ISO14001」の認証を取得しました。当社では、既存製品の環境に与える影響を踏まえて、環境マネジメントシステムを継続的に改善しています。また、環境に配慮し、生分解性プラスチックに着目した製品開発、廃棄物の削減やリサイクル化の推進、エネルギー使用の節約にも取り組んでいます。
事業内容 | ■色材関連業界向け化成品・加工品の製造・販売
■塗料、電子材料、化粧品、建材他幅広い業界へのWAX等微粒子分散体の研究開発・製造・販売 <主要品目> 印刷インキ用添加剤・トーニング剤 マスターバッチ 情報機器用の記録材料 WAX微粒子分散体 |
---|---|
設立 | 1960年4月 |
資本金 | 1億円 |
従業員数 | 53名(2022年4月現在) |
売上高 | 2020年 16億7千万円
2021年 17億7千万円 |
代表者 | 代表取締役社長 常見 宏一 |
事業所 | 本社・寒川工場/神奈川県高座郡寒川町一之宮4丁目21番1号
南工場/神奈川県高座郡寒川町田端1579 |
株主 | 森村商事株式会社 |
沿革 | <1960年>
森村スタンダード・ウルトラマリーン・アンド・カラー株式会社を森村商事株式会社50%、スタンダード・ウルトラマリーン・アンド・カラーカンパニー50%の出資比率で、資本金8,640万円で設立 <1961年> 寒川工場を完工・操業開始 <1962年> ルカリブートナー、アルカリレッドトナーの製造販売を開始 寒川工場に第二工場を建設 <1963年> 森村スコ株式会社に商号変更 <1964年> スタンダード・ウルトラマリーン・アンド・カラーカンパニーの株式の持分をケメトロンコーポレーション(米国)に譲渡 <1967年> プレディスパーズドピグメントを発売 <1970年> 寒川工場に第三工場を建設 ビニールシステムを発売 <1974年> 森村ケメトロン株式会社に商号変更 資本金を1億円に増資 <1976年> ワックスコンパウンド、コピートナー用マスターバッチ上市 <1979年> BASF AG(ドイツ)のケメトロンコーポレーションの買収により、ケメトロンコーポレーション保有分の株主がBASFジャパン株式会社に変更 <1980年> 森村バーディシェ株式会社に商号変更 本社分室を虎ノ門に開設 <1992年> 寒川工場の第一工場改築完了 <1999年> BASFジャパン株式会社の株式の持分を森村商事株式会社に譲渡 森村ケミカル株式会社に商号変更 <2000年> 寒川工場敷地内に事務・技術棟を建設し、本社機構を虎ノ門から移転 <2005年> 寒川工場の第二工場増築 <2007年> 品質マネジメントシステム「ISO9001:2000」認証取得 <2008年> 本社所在地の登記を寒川町一之宮に移転 環境マネジメントシステム「ISO14001:2004」認証取得 <2011年> 南工場操業開始 <2019年> 南工場に新規(グラビア・塗料)事業向け設備設置と稼働 <2022年> 天然由来WAXの真球微粒子化に成功 |
※リクナビ2025における「プレエントリー候補」に追加された件数をもとに集計し、プレエントリーまたは説明会・面接予約受付中の企業をランキングの選出対象としております。