化学・材料専攻|成膜とエッチングのプロセス開発インターン

プログラム内容 ＼今期の長期インターン これがラストです／ 冬の2週間、 ナノの世界をつくる現場へ。 ※交通費・宿泊（県外のみ） ・日当つき。 締切：10月7日(水) 午前9時 ━━━━━━━━━━━━━ ✨ 2週間でおこなうこと ━━━━━━━━━━━━━ 半導体メモリは、原子層レベルで 膜質を制御してつくられます。 ・ガスと圧力で膜質を決める ・薬液と時間で表面を洗い上げる ・反応条件でナノの形をつくる ・研磨でナノの平坦をつくる 見学でもグループワークでもなく、 現場のプロジェクトに入ります。 2週間、現場のエンジニアと 同じチームで動きます。 企業研究や1dayでは得られない 手ざわりが残ります。 ━━━━━━━━━━━━━ ✨ ひと目でわかる募集要項 ━━━━━━━━━━━━━ 時期：2026年12月中旬以降の 連続2週間 （土日祝と12/24〜1/11を除く） 場所：広島本社（広島県東広島市） 対象：2028年3月卒業・修了予定 の理系（学部・修士・博士） 待遇：・日当2,000円／日 ・交通費を支給 ・宿泊施設をご用意（県外） 締切：10月7日(水) 午前9時 ━━━━━━━━━━━━━ ✨ こんな方におすすめ ━━━━━━━━━━━━━ ✅ 応用化学・材料科学・物質工学 専攻の方 ✅ 物理化学・マテリアル系 専攻の方 ✅ 成膜・エッチング・洗浄などの プロセス技術に興味がある方 ✅ 化学・素材メーカーと並行して 半導体業界も検討したい方 ━━━━━━━━━━━━━ ✨ 職種とテーマ（一例） ━━━━━━━━━━━━━ ■ 生産技術開発職 ・成膜（CVD／PVD） ガスと圧力の条件から 膜厚と膜質の均一性を詰める ・ドライエッチング 反応条件でミクロ形状と 寸法を決める ・ウェットプロセス 薬液濃度と処理時間で 洗浄とエッチング量を制御する ・CMP（化学機械研磨） スラリーと研磨条件で 平坦性を追い込む ・拡散／イオン注入 イオン種と注入量で デバイス特性を決める ※専攻とご希望に応じて 配属を決定します ━━━━━━━━━━━━━ ✨ 会社について ━━━━━━━━━━━━━ 世界をリードする 半導体メモリメーカー。 電気電子、物理、化学、情報、 数学、機械が「ONE TEAM」で デジタル社会の心臓部を つくっています。 外資系ならではのフラットな環境で、 若手にも裁量があります。 従業員数：4,200名超（日本法人） 売上高：5,885億円（2025年度） ━━━━━━━━━━━━━ ✨ 応募について ━━━━━━━━━━━━━ 選考：書類選考 ➔ オンライン面接（1回） 方法：マイページの エントリーシートにて応募 ①リクナビで「エントリー」を押す ②発行されたマイページにログイン ③エントリーシートを提出 勤務地（入社後の配属予定地）： 広島県、神奈川県

広島県東広島市 広島県内(マイクロンメモリジャパン株式会社)

長期休暇に開催あり

2026年12月、2027年1月・2月

理系歓迎

応募資格 【対象の学校種】 大学/大学院 【応募資格詳細】 ・2027年9月卒業予定の理系学生 ・2028年3月卒業予定の理系学生 募集対象学校：大学院（博士）、大学院（修士）、大学

交通費あり、宿泊費あり、報酬あり

報酬・交通費 □報酬：日当2000円（予定） □交通費：支給あり（当社規定あり） □宿泊費：支給あり

応募・選考の流れ ・ご参加方法はコチラ 1. リクナビから「エントリー」ボタンを押してください。 2. エントリー後、マイページのURLが発行されます。 3. マイページにログイン後、参加に必要な手続きを進めてください。