| 社名 | レーザーテック株式会社 |
|---|---|
| 本社所在地 | 神奈川県横浜市港北区新横浜2-10-1 |
| ホームページ | https://www.lasertec.co.jp/ |
詳細はリンク先外部サイトをご確認ください。 2026年5月11日時点情報
初回掲載日:2026年5月27日
企業研究
52件の情報源AIがWeb上の情報を収集・分析しました。
半導体の回路原版であるフォトマスクを光で検査し、EUV世代の欠陥管理を支える装置の会社。
半導体とFPD向けの検査・計測装置が中心。目では見えない小さな欠陥や寸法のずれを、光で確かめる装置を扱う。
見ている対象は、フォトマスク、マスクブランクス、ウェハ。半導体の回路を写す前の材料や原版を細かく点検する。
フォトマスク関連が主力で、EUVマスクブランクス欠陥検査装置は業界標準。マスク欠陥検査装置も最先端リソグラフィで高いシェア。
EUV光源と同じ13.5nmの光を使う装置があり、実際の露光に近い条件で欠陥を見る。
2024年には次世代EUV向けのABICS E320を製品化。微小な位相欠陥の管理に対応する方向へ進んでいる。
1976年に世界初のLSIフォトマスク自動欠陥検査装置を開発。2017年のABICS E120、2019年のACTIS A150へと、世界初を積み上げてきた。
出発点は医療用X線テレビカメラ装置の開発協力会社。今も『世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる』が軸。
EUV:極端紫外線。波長13.5nmのとても短い光で、半導体の細かい回路づくりに使う。
フォトマスク:ウェハに回路パターンを写すための原版。透明なガラス板の上に回路の1層分を作ったもの。
ブランクス(マスクブランク):フォトマスクを作る前のガラス基板材料。
リソグラフィ:光や電子で、ウェハに回路パターンを写す技術。
位相欠陥:EUVマスクやEUVマスクブランクスの多層膜の周期が乱れ、写り方に影響する欠陥。
FPD:LCDやPDPなどの薄型ディスプレイの総称。
創業
1960年、有限会社東京ITV研究所として始まりました。出発点は、医療用X線テレビカメラ装置の設計・開発を担う松下通信工業の協力会社です。当時は、検査や観察の仕事を人の目に頼る場面が多く、まずはその周辺を支える技術から積み上げていく形でした。そこから1962年に日本自動制御株式会社となり、最先端分野の技術開発へ軸を移します。最初の自社ブランド製品は1971年のテンションアナライザーで、半導体分野に入った1975年にはフォトマスク・ピンホール検査装置を発売し、1976年には世界初のLSIフォトマスク欠陥検査装置「1MD1」を出しました。工場で目視していた検査を自動化し、検査速度と欠陥検出感度を上げたことが、会社の土台になりました。
転換点
大きな転換点は、半導体の中の仕事を深く掘り下げながら、別の分野にも広げた時期です。1976年のLSIフォトマスク欠陥検査装置で半導体工場の目視検査を自動化し、その後1980年には下請け業務がなくなって自社製品100%になりました。さらに1985年には世界初の走査型カラーレーザー顕微鏡を開発し、ここで半導体以外の新しい事業分野に乗り出します。1986年に社名をレーザーテック株式会社へ変えたのは、半導体で知られた会社から、レーザーを中心にした光応用技術の会社へ名前ごと切り替えるためでした。今の『世の中にないものをつくる』という考え方は、この時期に形になっています。
現在
今の主力は半導体関連検査装置です。製品はEUVやDUVのマスク関連、ウェハ関連が中心で、FPD関連装置、レーザー顕微鏡、リチウムイオン電池関連装置も並びます。2026年2月の中間連結売上高は1,282億58百万円で、そのうち半導体関連装置が983億16百万円、サービスが278億72百万円でした。装置を売るだけでなく、立ち上げ後のサービスも事業の中に入っています。本社は新横浜にあり、米国、ドイツ、アイルランド、イスラエル、韓国、台湾、中国、シンガポールに拠点があります。
これから
2025年6月期から2030年6月期までの中期経営計画では、年平均成長率10%以上、売上高4,000~5,000億円、営業利益率35%以上を目標にしています。進め方は、リードタイムの短縮とサービスビジネスの拡大です。ACTISやMATRICSの製造・立ち上げ工程を改善し、新横浜のLasertec Innovation Parkも活用します。背景にあるのは、AI、IoT、5G/6G、データセンター向けで半導体の用途が広がっていることです。
フォトマスク:半導体回路をウェハに写すための原版です。
EUV:極端紫外線のことです。波長13.5nmの光を使い、より細かい回路づくりに使われます。
理念/ミッション
光技術の分野で、どこよりも早くソリューションを提供し、お客さまの問題解決に貢献する
価値観/行動指針
法令・定款および社会規範を順守し、公平な取引や適切な企業活動を推進する
EUVの難所を先に装置化した
EUVマスクブランクス欠陥検査装置は業界標準の検査装置として採用され、マスク欠陥検査装置も最先端のリソグラフィで高いシェアを獲得している。さらに、世界初のEUV光源を用いたアクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置ACTISシリーズを世に送り出しており、先端世代の量産に必要な装置を早く作ってきた。
生産を外に出して、開発に寄せる
ファブライト戦略を採用し、生産は外部委託、エンジニアは研究開発とお客さまとのコミュニケーションに注力する。装置を作る力だけでなく、先端顧客の要望を拾って設計を素早く詰める進め方が前提になっている。
EUV:極端紫外線。半導体の細かい回路を写すために使う、短い波長の光。
フォトマスク:ウェハ上に電子回路パターンを作るときの原版。
マスクブランクス:フォトマスクを作るためのガラス基板材料。
メーカー業界は、原材料から最終製品まで「もの」を企画・製造し、世の中に送り出すことで人々の生活や社会の基盤を支える業界です。製品が消費者の手に届くまでの全工程を担うこともあれば、特定の部品や素材に特化して、他のメーカーを支えることもあります。私たちの身の回りにあるあらゆる製品の誕生に深く関わり、日々の暮らしを豊かにする価値を提供しています。
業界でやっていること
メーカー業界では、まず『商品企画』が市場のニーズやトレンドを捉えて新製品のアイデアを生み出します。次に『研究開発』がそのアイデアを実現するための技術や素材を開発し、『生産管理』が効率的な製造ラインを構築。そして『資材調達』が国内外から必要な原材料や部品を確保し、工場で製品が形になります。完成した製品は『品質管理』によって厳しくチェックされ、『営業』が顧客に提案・販売することで、私たちの手元に届けられます。企画から販売まで、各職種が連携して「ものづくり」を推進するバリューチェーンが特徴です。
この業界を見るポイント
メーカー業界の企業を見る際は、「誰に何を売っているか」という視点が重要です。例えば、一般消費者向けの製品(BtoC)を扱うメーカーは、スーパーや家電量販店で目にする機会が多く、流行やブランド戦略が仕事の面白さにつながります。一方、企業向けの部品や素材(BtoB)を扱うメーカーは、普段は目に触れないところで、自動車やスマートフォンといった最終製品を支えています。どちらのビジネスモデルに魅力を感じるかで、企業選びの方向性が見えてくるでしょう。
知っておくとよい基礎知識
メーカー業界では、国内の人口減少や国際競争の激化に対応するため、製品の「高付加価値化」と「グローバル展開」が加速しています。単に安く大量に作るだけでなく、環境に配慮した素材を使ったり、AIを活用して生産効率を上げたりと、より質の高いものづくりを目指しています。また、海外市場での成長を取り込むため、現地のニーズに合わせた製品開発や、海外企業の買収なども積極的に行われています。
半導体を作る工場の中で、回路を写す前の『原版』であるフォトマスクと、その欠陥を見つける検査装置に深く寄った会社です。比べるときの軸は、装置をどれだけ広く持つかよりも、『どの工程のど真ん中を押さえているか』です。レーザーテックは、EUV時代の先端量産を支える側として見ると輪郭がつかみやすいです。
市場規模
半導体製造装置の世界市場は、SEMIの2025年末予測で2025年が1,330億ドル、2026年が1,450億ドル、2027年が1,560億ドルです。2026年のWFEは1,439億ドル見通しで、AI向けの先端ロジックとHBM向けメモリ投資が伸びを作っています。つまりこの業界は、半導体が何個売れるかより、先端工場が新しい世代の設備にどれだけお金を入れるかで動きます。中国、台湾、韓国が投資上位で、地域の設備投資の波がそのまま需要に直結します。
業界内ポジション
レーザーテックは、KLAのように工程全体を広く見る会社ではなく、フォトマスクとマスクブランクの検査にかなり絞った会社です。日立ハイテクはCD-SEMで強く、ニコンは露光装置と光学・精密技術が軸、Onto Innovationは先端ノードと先端パッケージ向けの検査・計測に強いです。こう並べると、レーザーテックの違いは『何でも作る』ことではなく、EUV時代のボトルネック工程に早く深く入り、そこで標準装置の位置を取っている点です。
EUVマスク検査の標準装置を持ち、先端工場の量産ラインで外せない役に入れる。
フォトマスクとマスクブランクに絞っているので、難しい一点を深く追う仕事になりやすい。
AI向けの先端ロジックとHBM向けメモリ投資が伸びる局面とつながっているので、半導体のニュースと仕事のつながりを追いやすい。
サービス売上を伸ばす方針があり、装置を売って終わりではなく、導入後の支え方にも関われる。
早い時期からEUV向けの開発に入ってきたので、『次の世代の半導体で何を見るか』というテーマがはっきりしている。
半導体製造装置は設備投資の波で大きく動くので、景気や投資判断の変化が売上に出やすい。
投資の上位地域が中国、台湾、韓国に集中しているため、地域の景気や政策の変化を受けやすい。
輸出規制や通商ルールの変更で、売れる地域やタイミングが変わる。
買い手が大手ファブに集中しやすく、設備投資の見送りがそのまま受注の空白になりやすい。
技術の切り替えが速く、次の世代に合わせた装置を出せないと採用されにくい。
EUV:極端紫外線。半導体をもっと細かく作るために使う、波長がとても短い光。
フォトマスク:半導体の回路を写し込むための原版。
WFE:ウェーハファブ装置。半導体の材料の板を加工する前工程の装置群。
HBM:AI向けなどで使われる、データを速くやり取りしやすい高帯域メモリ。
※上記はあくまで一例であり、実際とは異なる場合があります。
「入社1カ月半で先輩と一緒にアメリカへ出張し、お客様の工場で装置の立ち上げに入りました。まだ自分では判断できないことばかりでしたが、先輩が周辺技術まで含めて答えていく姿に圧倒され、最後に『Good Luck!』と握手されたときは一気に達成感が来ました。機械・電気・光学・ソフトをまとめて触ってみたい人にはかなり向いていると思います。」
2018年入社
「研究畑から入っても、企画段階から開発に入り、クリーンルームでサーバー設置や配線、装置のPCセットアップまで自分でやります。海外工場へ出張して、トラブルのログを見やすくする仕組みを思いつき、チームに提案して形にしていくこともあります。初めてのことは多いですが、失敗しながら手を動かして覚えるのが好きな人には合う会社だと思います。」
2016年入社
「営業マネージャーとして、お客様の声を聞き、エンジニアと組んで最適な装置を提案して受注まで持っていきます。EUVのように前例の少ない案件では、商談の進め方そのものが普通の営業と違い、一つひとつが新発見でした。お客様と技術の間をつなぐ役回りを面白がれる人に向いていると思います。」
1996年入社
EUV:極端紫外線のこと。レーザーテックの採用ページでは、波長13.5ナノメートルの光源として説明されています。
Design Review:新しい機能や技術を考えるときに、複数の部署のエンジニアが集まって議論する場です。視点を増やしながら開発力を高めるための取り組みとして紹介されています。
ソフトウェア担当
検査装置の中身を、使えるソフトに仕上げる仕事
仕様を決める打ち合わせ:光学・電気・機構の担当と一緒に、お客様の使い方や要求仕様を見ながら、装置の仕様を決めてソフトを設計・開発する。
画像処理の見直し:検査画像の中から、欠陥に見えるだけのものを外すために、アルゴリズムや画像処理の方法を組み直し、必要な画像だけを拾う形にする。
トラブル時のログ解析:装置にエラーが出たときは、海外の顧客工場でも稼働ログを確認し、原因を探る。専門的で見づらい情報は、顧客でも見やすい簡易ビューアにする案まで出して改良する。
毎週の電話会議で、お客様の評価結果と仕様をすり合わせ、社内レビューで次の修正点を決める。
難しさは、回路の微細化で欠陥と疑似欠陥の見分けが難しくなり、トラブル時のログも専門的で読み切りにくいこと。手応えは、自分で考えた処理や機能が実装され、原因切り分けや検査精度の改善にそのまま使われること。
疑似欠陥:欠陥に見えるが、実際には欠陥ではないもの。検査装置の画像処理で区別が必要になる。
クリーンルーム:ごみやちりを強く減らした部屋。半導体装置の設置や調整で使う。
アルゴリズム:何をどんな順番で処理するかを決めた手順。ソフトで画像を見分ける土台になる。
ログ:装置が動いた記録。トラブルの原因を探る手がかりになる。
アプリケーションエンジニア:装置を現場で使えるように立ち上げ、使い方や保守をお客様と詰める担当。
技術営業:顧客ニーズを集め、技術部門と連携して提案や販売を進める営業。
本社を対象としたRBA VAP監査で、最高評価のプラチナ・ステータスを取得しました。
2026年06月03日
Photomask Japan 2026で、執行役員の宮井博基氏がフォトマスク検査と次世代リソグラフィマスク検査に関する講演を行います。
2026年04月01日
マスク欠陥検査装置「MATRICS X712シリーズ」を発表しました。>250nm~90nmのデザインノードに対応し、5/6/7インチマスクやDDB/DD/SDの検査モードに対応します。
2026年03月31日
インテルコーポレーションより2026年度EPIC Supplier Awardを受賞しました。
2026年03月25日
BATTERY JAPAN 2026に出展し、リチウムイオン電池のオペランド観察システム「ECCS B320」や新モデル「B520」などを紹介します。
2026年03月10日
第40回ネプコンジャパンに出展し、OPTELICS HYBRID+、OPTELICS AI2、BIMシリーズ、OPTELICS IR、OPTELICS UXMを紹介します。
2026年01月13日
2026年8月26日更新
内容に満足していますか?
上記の情報は、公開情報に基づいて作成されたものであり、当該企業の現状を完全に反映しているとは限りません。最新の情報は、企業の公式ウェブサイトや採用情報などを参照してください。
この回答は定期的に収集した情報に基づいており、将来変更される可能性があります。
この機能は、Indeedによって提供されています。
| 社名 | レーザーテック株式会社 |
|---|---|
| 本社所在地 | 神奈川県横浜市港北区新横浜2-10-1 |
| ホームページ | https://www.lasertec.co.jp/ |
締切:なし
原稿ID:943638f71a8eac49
この募集に関する問い合わせはこちら同じ業種の募集を探す