川崎2/13(金) 世界最先端の半導体フォトマスクの技術体験

プログラム内容 ✅半導体製造に欠かせないフォトマスクの製造メーカー ✅世界トップクラスのシェアと技術力 ✅常に世界をリードする最先端製品を供給 ✅大日本印刷とキオクシアの共同出資企業 ============== 世界をリードする会社 ============== 2000年3月、半導体フォトマスク製造の量産化技術をもつ大日本印刷と、その微細化技術で業界をリードする東芝（現在は、キオクシア）の共同出資によって設立されました。半導体製造に欠かせないフォトマスクの製造において、わたしたちは世界トップクラスのシェアと技術力を誇っています。 ============ ■体験プログラム ============ 2/13(金) 8：30～17：00@川崎工場 半導体業界や当社について理解を深め、半導体フォトマスクの製造に必要な技術を学ぶことが出来るプログラムです。 エンジニアとの対話や工場見学を通して、技術職として必要な素養に触れるワークもご用意しています。 ※半導体に詳しくない方も、安心してご参加ください。 ※理系学生の方が対象です（専攻分野は問いません） ============ 応募方法 ============ リクナビから「エントリ―」＝「日程予約完了」となります。 後日エントリ―頂いた方に詳細情報をお送りいたしますので、ご確認の上返信ください。 応募者多数の場合は、別途調整を行う場合があります。 ============ こんな方は是非！ ============ いずれかに該当する方大歓迎です ✅最先端の技術に関わる仕事がしたい ✅半導体業界に興味がある ✅技術力のある会社に興味がある ✅高品質なモノづくりに関わりたい ============== フォトマスクって何？ ============== フォトマスクとは、半導体チップの回路原板です。金属膜と感光材が塗布されたガラス基板に電子ビームやレーザービームを照射して回路パターンを転写し、焼き付けていきます。写真のネガフィルムの役割をしています。半導体チップに微細な回路を形成していくために欠かせないのがフォトマスクであり、微細化が進むほど必要なフォトマスクの枚数は増えていきます。デジタル社会に不可欠な半導体と同様に、私たちの技術も日々進化を続けています。 ==================== 世界標準の先を行く次世代製品開発 ==================== 私たちは、製品開発でフォトマスクユーザでもあるキオクシアから半導体デバイスの最先端情報を入手できる立場にあります。そのため、さまざまな技術で世界標準よりも常に先行できる優位性をもっています。また、フォトマスク製造装置メーカ、材料メーカなどとの密接な関係から、最新鋭の製造装置を導入し、常に世界に先駆けて最先端のフォトマスクを供給しています。 また、最先端半導体デバイスの開発計画を踏まえ、想定されるフォトマスクの需要予測から新技術の開発を継続的に行っています。その開発・供給体制の場として、神奈川県にある本社・川崎工場をフォトマスク開発・製造拠点、そして、岩手県の北上工場を量産製造拠点と位置付けています。それぞれの拠点は、相互補完体制を保持しつつ、最先端のクリーンルーム・製造ラインを整備・構築し、次世代フォトマスク製品の開発・量産化を実践しています。

神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 川崎工場(ディー・ティー・ファインエレクトロニクス株式会社) 【交通手段】 交通手段 ＪＲ川崎駅からバスで１５分程度

応募資格 ・大学生、大学院生で2027年3月卒業予定の方 ・理系学生の方（分野は問いません） 募集対象学校：大学院（修士）、大学

報酬・交通費 報酬はありません 交通費は決定次第ご案内いたします

応募・選考の流れ リクナビから「エントリ―」＝「予約完了」となります 後日エントリ―頂いた方に詳細情報をお送りいたしますので、ご確認の上返信ください。 応募者多数の場合は、別途調整を行う場合があります。