| 社名 | レーザーテック株式会社 |
|---|---|
| 本社所在地 | 神奈川県横浜市港北区新横浜2-10-1 |
| ホームページ | https://www.lasertec.co.jp/ |
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初回掲載日:2026年5月27日
企業研究
48件の情報源AIがWeb上の情報を収集・分析しました。
半導体工場のEUV向け検査装置とレーザー顕微鏡を軸に、世界初の機械を次々生む光の装置メーカー。[1][2][3]
半導体向けの欠陥検査・計測装置が中心で、マスクブランクス、フォトマスク、ウェハを見ています。[1][4]
EUV向けのマスクブランクス欠陥検査装置が業界標準として使われ、最先端のリソグラフィで存在感があります。[1][5]
FPDの高精細フォトマスク検査装置も持ち、半導体だけに寄り切らない事業の柱があります。[1][4]
レーザー顕微鏡は、材料、金属部品、樹脂部品、バイオ試料の研究開発や品質確認に使われています。[1][6]
強みの土台は光応用技術で、レーザー、共焦点、DUV/EUV、干渉計を組み合わせて機械を作っています。[1][5]
開発は、企画から保守まで一気通貫です。現場の顧客と毎日話し、Design Reviewに管理職も入って早く決めます。[2][7]
世界初の工業用カラーレーザー顕微鏡や世界初のEUVパターンマスク検査装置を出してきた、前例づくりの会社です。[3][6][8]
理念/ミッション
光技術の分野で、どこよりも早くソリューションを提供し、お客さまの問題解決に貢献する[2]
価値観/行動指針
毎年一つの新製品を開発しよう、それも世界ではじめてのものを[2]
開発から保守まで、技術者が追う
技術と品質のページでは、技術者が企画、要素技術研究、試作、設計、製造、納入、据え付け、保守まで一連の流れを見ている。顧客に入れたあとも使われ方を見ながら次の製品に反映するつくりで、仕事が分業で切れにくい。[7]
早く決めて、早く出す
経営戦略では、フラットで柔軟な組織が迅速な意思決定と最速の製品開発を可能にするとしている。顧客の新しいニーズに素早く答えることが前提に置かれていて、開発の進み方が速い。[9]
レーザーテックは、半導体の中でもマスク、マスクブランクス、ウエハを「見て、見つけて、測る」検査・計測装置に絞った会社です。広く何でも作る会社ではなく、EUV世代のような最先端工程で代わりがききにくい装置を深く押さえるタイプなので、同業比較では「装置の数」より「どの工程の欠陥を握っているか」で見ると違いがはっきりします。世界でも一つだけの装置がある、という立ち位置がこの会社の強さです。[9][34]
市場規模
世界の半導体製造装置市場は、SEMIの予測で2024年に1170億ドル、2025年に1255億ドル、2026年に1381億ドルまで伸びる見通しです。中でもウエハファブ装置は2025年に1108億ドルで、全体の大半を占めます。つまりこの業界は、スマホ需要そのものよりも、AI向けの先端ロジックやHBMに各社がどれだけ設備投資するかで動きやすい市場です。レーザーテックを見るときは、半導体が売れるかではなく、先端工場が「さらに細かく作るために、どれだけ検査を厳しくするか」で伸びる会社として捉えるとわかりやすいです。地域では中国、台湾、韓国への投資が大きく、貿易政策の影響も受けやすいです。[35][36][37]
少数の装置に集中するので、1つの開発テーマを深く掘る仕事になりやすいです。会社は約7割がエンジニアで、売上の5〜10%を研究開発に回しています。[9]
製造を外部委託するfab-liteなので、社内の力を開発と顧客対応に寄せやすいです。装置を量産する会社というより、装置の頭脳を作る会社に近いです。[9][34]
EUVマスクやマスクブランクスの検査は、先端半導体の中でもかなり狭いけれど重要な場所です。世界で代わりがききにくい装置を扱えるのは、この会社ならではです。[34][40][41]
世界の半導体大手と近い場所で仕事をするので、最先端の工場が何を困っているかを直接聞きながら装置を作れます。技術の変化が速い現場に近いのは、この業界の中でも面白い点です。[34][42]
半導体製造装置は、顧客の設備投資に強く左右されます。AI向け投資が伸びると市場は大きくなりますが、投資が止まると需要も落ちやすいです。[35][43]
市場成長が中国、台湾、韓国の投資に大きく寄るため、関税や輸出規制などの貿易政策の影響を受けやすいです。[35]
半導体設備は景気や世代交代の波が大きく、売れる地域や用途が変わりやすいです。特定の世代の投資が一段落すると、次の波を待つ時間が生まれます。[35][36]
マスクショップとウェハファブ向けのマスク欠陥検査装置「MATRICS X712シリーズ」を発表。5/6/7インチマスクに対応し、複数の検査モードを組み合わせて使える。
2026年03月31日
マスクブランクス欠陥検査/レビュー装置「MAGICS M9750/M9751」を発表。前の機種より感度と処理速度を高めた。
2025年12月08日
超短パルスレーザー励起顕微鏡「OPTELICS UXM」を製品化。
2025年11月14日
全固体電池の充放電中の反応を見える化するコンフォーカルシステム「ECCS B520」を発表。
2025年05月09日
IR光を使って、非破壊・非接触で高解像度観察と高精度測定ができる「OPTELICS IR」を発表。
2025年01月20日
EUV
半導体を細かく描くために使う、13.5nmの極端紫外線です。[1][3]
フォトマスク
半導体の回路模様を写し取るための元になる板です。[1]
マスクブランクス
フォトマスクの元になる材料です。[1]
FPD
液晶や有機ELなどの平らな表示パネルのことです。[1]
光応用技術
光を使って、ものを見たり、欠陥を見つけたり、長さや厚みを測ったりする技術です。[1][5]
fab-lite
自社で工場をたくさん持たず、製造は外部に任せて、開発や設計に力を集めるやり方です。[9][34]
2026年5月27日更新
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