本州化学工業株式会社
ホンシュウカガクコウギョウ
2026

本州化学工業株式会社

三井グループ/三井化学・三井物産の子会社/化学品製造販売
業種
化学
医薬品/半導体・電子部品・その他/自動車/総合電機(電気・電子機器)
本社
東京、和歌山
インターンシップ&キャリアの評価(-件)
総合評価 - 評価が高い項目 -

私たちはこんな事業をしています

三井グループのフェノール系誘導品の合成技術を活かした特徴のある数多くのファインケミカル製品を提供するパイオニアです!創業1914年にアニリン製造から始まり時代の流れと共に変化し続け、100年以上にわたり基礎原料から先端化学品原料まで幅広い分野で活躍する数多くの素材製品を造っています。その中でも「電子材料」「特殊ビスフェノール」「ビフェノール」「クレゾール誘導品」の4事業を主力事業と位置づけています。

当社の魅力はここ!!

企業理念

ファインケミカルのグローバルスペシャリストとして・・・

当社が和歌山の地に誕生したのは1914年。創業者の由良浅次郎が国内初のベンゼン精留装置を完成させ、合成染料アニリンの生産をはじめたのが始まりです。以来100年以上にわたりパイオニア精神を基本理念に確かな技術力と創造力を培って参りました。現在、当社の製品は情報通信から自動車、医療、農業などあらゆる産業分野で使用されています。その数は約500品にもなります。多様化・高度化するニーズに的確に応え、創造してきた製品群。これからも本州化学工業はファインケミカルのグローバルスペシャリストとして、常に技術を革新し人々の豊かな未来のために新たな可能性への挑戦と創造を続けています。【写真】近代化産業遺産(経済産業省)認定

技術力・開発力

世界トップクラスのシェアを誇る製品が多数あります

当社は、これまで世界トップクラスのシェアを誇る製品を数多く生み出してきました。代表的なものが「ビフェノール」「ポリフェノールズ」そして「トリメチルフェノール」。ビフェノールはパソコンのコネクターなどに使用される主要原料です。ポリフェノールズは、情報通信・電子関連産業には欠かせない「フォトレジスト」の主要原料のひとつ。ICやLSIなど、半導体の製造工程で使用されています。そして、トリメチルフェノールは、抗酸化作用を持つビタミンEの原料。従来の抗生物質に代わって、主に飼料添加物として使われます。これらはいずれも、今後とも社会に不可欠であり、ますますの需要拡大が見込める製品たちなのです。

魅力的な人材

社会貢献への思いにあふれる社員たちが、当社の自慢です。

「創造への挑戦」を企業理念に、ワールドワイドな事業展開と、ファインケミカル会社を目指している当社。手がけている化学製品も、現代の豊かな生活を支えるのに必要不可欠なものばかりです。そのため社員も、当社の製品が関わった最終的な製品を通じて、社会貢献をしたいという思いにあふれる人ばかり。のびのびとした環境の中で開発や研究に取り組んでいるので、数々の賞を受賞するなど、当社の独創的な技術や企業実績は高く評価されています。そんな当社が求めているのは、「常にチャレンジし続けることが好きな方」。魅力的な社風と先輩たちが、あなたを待っています。

会社データ

事業内容 液晶ポリマー(LCP)、特殊エポキシ樹脂及び特殊ポリカーボネート樹脂などの高機能樹脂の原料、フォトレジスの材料、感光性ポリイミドの材料、医薬品、農薬、ゴム製品などの原料となる各種化学品の製造・販売
三井化学株式会社の子会社へ 高い技術力に裏打ちされたユニークな製品を多数保有し、高い収益力を誇る当社。三井化学と三井物産とのさらなるシナジーの実現を目的としたM&Aが2021年に成立し、より強固な関係となりました。これによってさらなる高みを目指し、挑戦を続けてまいります。
企業メッセージ 本州化学工業は1914年創業の老舗の化学会社です。
フォトレジストや5G向け高機能樹脂原料など高付加価値のユニークな製品を多数保有し、業界内でも高い収益力を誇っています。
三井化学、三井物産などパートナー企業とのシナジー効果も持続的な成長を支えており、高い競争力と安定性を持ちながら、新しいことへのチャレンジを推進する企業風土も持ち合わせています。
これは次の100年に向けた飛躍のチャンスです。だからこそ、今、あなたの力が必要です!
世界トップクラスのシェアを誇るコア製品 ---【 世界トップクラスのシェアを誇るコア事業 】---

本州化学工業は、固有の技術とトップクラスのシェアを誇る、「電子材料」「特殊ビスフェノール」「ビフェノール」「クレゾール誘導品」の4事業を主力事業と位置づけ、それらの製品を中心に主として情報・通信、自動車、医薬などのニッチ分野向けに、国内外において積極的な事業活動を展開しています。

◆電子材料事業
電子材料事業は、半導体およびフラットパネルディスプレイの製造過程で使用されるフォトレジストの材料となる各種製品を取り扱っています。フォトレジストとは、光や放射線によって物性が変化する感光性樹脂であり、ICやLSIなど半導体の製造工程で使用され、情報通信・電子関連産業には欠かすことのできない製品です。
【主な用途】
フォトレジスト用添加剤
フォトレジスト用樹脂原料

◆特殊ビスフェノール事業
特殊ビスフェノールは、主にエレクトロニクス分野やモビリティー分野の高機能部材に使われる樹脂(特殊ポリカーボネート、特殊エポキシ)の原料となります。
エレクトロニクス分野では、光学特性に優れた特殊ビスフェノール (用途:光学レンズ用樹脂原料) や、低誘電率や耐熱性など特徴ある機能を有した特殊ビスフェノール (用途:情報・通信機器部品) などを取り扱っています。
モビリティー分野では高耐熱樹脂原料 (用途:自動車部材) や高耐傷性樹脂原料(用途:自動車内装部材)などを取り扱っています。
【主な用途】
特殊ポリカーボネート樹脂原料
特殊エポキシ樹脂原料

◆ビフェノール事業
ビフェノールは、主にパソコンやスマートフォンのコネクターなど耐熱性・精密成形性を必要とする部品に使用されている液晶ポリマー(LCP)や医療用器具(滅菌器材など)に使用されているポリフェニルスルホン(PPSU)の主要原料であり、情報通信・電子関連分野や医療分野では欠かすことのできない製品です。当社は、世界市場においてトップシャアを有しており、ビフェノールメーカーとしての確固たる地位を築いています。
【主な用途】
スーパーエンプラ樹脂原料(LCP、PPSU)
エンプラ樹脂原料

◆クレゾール誘導体事業
クレゾール誘導品事業は、家畜用飼料に使用されるビタミンE原料となるトリメチルフェノールを主力に、農薬及び電子材料、フェノール系酸化防止剤などに使用されているクレゾール誘導品を取り扱っております。
【主な用途】
ビタミンE原料(飼料用)
農薬、電子材料
酸化防止剤
創業からパイオニア精神で化学業界の未来を切り拓いています! 本州化学工業は2014年に創業100周年を迎えました。

 当社の歴史は、創業者由良浅次郎が第一次世界大戦勃発で染料輸入が途絶えた繊維産業の苦境打開のため、わが国最初のベンゼン精留装置によるアニリンを事業化するため、1914年に和歌山市において由良精工合資会社を設立したことに始まります。以降、激しく変化する事業環境の中、幾多の困難や課題に直面しながらもこれらを克服し、着実に歩み続けることができたのも、創業以来培ってきた不屈のパイオニア精神と独自技術を受け継いできたからです。
 私たちは、これまでの100年間にわたる貴重な経験と知見をおおいに活かして、創業101年以降を見据えた、“独自技術で未来を拓くファインケミカル・スペシャリスト”として、新たな成長とさらなる飛躍を図ります。

 109周年を迎え、「新生」本州化学工業です。由良浅次郎が100年までの創業者なら、次の新しいページには”あなたの力”が必要です
業績(連結) 2023年3月 売上高 276億3,500万円
2022年3月 売上高 233億2,000万円
2021年3月 売上高 204億7,800万円
2020年3月 売上高 212億8,400万円
2019年3月 売上高 207億9,800万円
2018年3月 売上高 200億8,600万円
2017年3月 売上高 173億7,300万円
2016年3月 売上高 184億2,000万円
沿革 1914年11月 創業者の由良浅次郎により由良精工合資会社を設立
           国内初のベンゼン精留装置を完成させ合成染料アニリンを生産始める
1915年 2月 フェノールの製造開始
1948年 9月 京都研究所を新設
1952年10月 共和電化工業株式会社と合併し由良精工株式会社を設立
1955年10月 本州化学工業株式会社へ社名変更
1959年 9月 西ドイツヒュルス社と技術提携(シクロヘキサン製造技術提携)
1961年 3月 ビスフェノールA製造開始
1961年12月 東京証券取引所・大阪取引所に株式上場
1967年 2月 合成クレゾール製造開始
1971年 8月 トリメチルフェノール製造開始
1984年10月 和歌山工場内に総合研究所を新設
1988年 4月 ビスフェノールAを三井石油化学工業株式会社(現・三井化学株式会社)に事業譲渡
1991年 3月 液晶ポリマー(LCP)原料りビフェノール製造開始
1993年11月 和歌山工場でISO9002認証取得
1999年 4月 和歌山工場でISO14001認証取得
2001年11月 ドイツでBAYER・三井物産株式会社と共同で合弁会社Hi-Bis GmbHを設立(特殊ビスフェノール製造会社)
2009年 2月 ベンゼン精留装置が「近代化産業遺産(経済産業省)」認定
2010年 9月 和歌山県の森林保全事業活動に参画
2012年 3月 ベンゼン精留装置が「化学遺産(日本化学会)」認定
2014年 9月 ドイツHi-Bis GmbHのNo.2製造プラント商業運転開始
2014年11月 創業100周年
2014年11月 ドイツHi-Bis GmbH創業10周年
2021年 9月 三井化学株式会社の連結子会社・東京証券取引所上場廃止
代表者 代表取締役社長 木下雅幸
本社所在地 東京都中央区日本橋3ー3ー9 メルクロスビル
事業所 ■東京本店  (東京都中央区日本橋)
■和歌山工場 (和歌山県和歌山市)
■総合研究所 (和歌山県和歌山市)
主な取引先  三井物産株式会社 三井化学株式会社 住友化学株式会社 三井物産ケミカル株式会社 東京応化工業株式会社 BAYER など
グループ会社 ■Hi-Bis GmbH (ドイツ)
■本州興産株式会社
主な株主 三井化学株式会社 三井物産株式会社 
従業員数(単体) 355名(2023年4月現在)
平均年齢 42歳
平均勤続年数 17年
創業/設立 創業1914(大正3)年11月 /  設立 1949(昭和24)年3月
資本金 15億50万円
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