ノベリオンシステムズ株式会社

近年のモノのインターネット化（IoT）による各種センサー素子や高周波回路素子の利用の広がりに伴い、圧電薄膜や磁性薄膜など、従来のシリコンプロセス装置では加工困難な材料に対応できる微細加工装置が求められています。当社では、このような新規の技術ニーズに応えるべく、酸素や各種の活性ガスが使用できる ECR（電子サイクロトロン共鳴）高密度プラズマ源およびECR大電流イオンビーム源の開発を進めています。

当社では、プラズマ・イオンビームに関する技術コンサルティングだけでなく、実証装置の設計/製作もいたします。また、お客様が開発目標に到達されるまで丁寧にサポートいたします。当社は新規の技術ニーズにお応えするべく、酸素や各種活性ガスが使用できるECR(電子サイクロトロン共鳴)高密度プラズマ源およびECR大電流イオンビーム源の開発をすすめています。【開発例】化合物薄膜用スパッタ成膜装置、イオンビームミリング装置、PVDコーティング装置および高速蒸発源、中性ラジカル処理装置　など

当社は、未来に必要とされる微細加工技術の、先取り開発に注力しています。　例えば、プラズマ内の荷電粒子（イオンや電子）の運動ベクタリングは、プラズマプロセスの低ダメージ化および加工材料の多様化にとって、鍵となる技術であると考えています。　スタッフ全員が力を合わせ未来技術に挑戦し続ける、そんな会社を目指します。