キヤノンアネルバ株式会社
キヤノンアネルバ
2023

キヤノンアネルバ株式会社

キヤノングループ
業種
半導体・電子部品・その他
精密機器/機械/メンテナンス・清掃事業
本社
神奈川
インターンシップ・1day仕事体験の評価(-件)
総合評価 - 評価が高い項目 -

私たちはこんな事業をしています

当社は、「真空技術を駆使して未来を拓く」を合言葉に、キヤノングループの一員として、
豊かな社会づくりに貢献してきた総合電機メーカーやデバイスメーカーをお客様に、
半導体や磁気ヘッド・ハードディスク装置などの電子部品を製造するための
真空装置の開発・製造・販売および保守サービスを行っています。

当社の魅力はここ!!

事業・商品の特徴

超高真空技術を用いた高付加価値製品を提供

キヤノンアネルバは、1967年の設立以来今日まで長年培った真空技術や成膜加工技術で真空薄膜製造装置や真空コンポーネント製品の開発・製造・販売・サービス事業を展開しています。「真空技術で未来を拓く」をテーマに掲げ、高付加価値製品をお客様へ提供し、市場の発展に貢献してきています。キヤノン産業機器グループの一員として、グローバルなグループネットワークの強みを最大限に活かした事業展開をしています。

事業優位性

世界中の企業から必要とされる私たちの製品!

IT社会を支える主要製品の製造に欠かせない上、その性能・品質を決定するとまで言われる真空薄膜形成装置や真空コンポーネント製品―。弊社は、これらの装置・製品の世界トップクラスメーカーです。熾烈な開発競争を繰り広げる世界中の半導体デバイス・電子部品製造企業からの期待は大きく、私たちからの技術提案が顧客の開発上の大きなブレークスルーを引き寄せることも珍しくありません。また、多岐にわたる顧客のニーズに合わせてカスタマイズ対応できることも、当社の大きな強みです。

社風・風土

入社後、専門性を高めるキャリアがスタート!

世界最高度の製品開発を行う私たちですが、当初から真空技術に関する知識を求めているわけではありません。機械や電気、ソフトウェア、物理、化学といった領域を専攻している方であれば、開発に取り組む基礎的な技術の素養を活かしつつ、研修や実際の開発現場を通じ、専門性を高めていくことができます。 また、当社はこの装置の分野において、企画開発から製造・販売・保守サービスまで一貫して取り組んでいるので、どのフィールドでも新しい経験ができます。

会社データ

事業内容 ●真空成膜加工装置製造・販売
 ・半導体製造装置
 ・ストレージデバイス製造装置
 ・電子部品製造装置
 ・研究開発・小規模生産装置

●真空コンポーネント製品製造・販売
 ・真空ポンプ
 ・真空計測機器・分析機器
 ・真空部品

●保守サービス
 ・装置、真空コンポーネント製品保守・改造
 ・保守部品販売
 ・部品洗浄
設立 1967年10月21日
資本金 18億円(キヤノン(株)100%出資)
従業員数 1,107名(2020年12月31日現在)
売上高 243億円(2020年12月期)
代表者 中島卓実(代表取締役社長)
事業所 <本社>
神奈川県川崎市
<事業所>
山梨県南都留郡鳴沢村
<国内拠点>
宮城県、長野県、愛知県、石川県、大阪府、広島県、徳島県、熊本県
<海外拠点>
アメリカ、オランダ、ドイツ、UK、韓国、台湾、シンガポール、中国
本社郵便番号 215-8550
本社所在地 神奈川県川崎市麻生区栗木2-5-1
本社電話番号 044-980-5111
従業員 1,107名(2020年12月31日現在)
戦略・ビジョン いま半導体製造の現場では、ナノメートル単位(10億分の1メートル)で微細加工を行っています。それを可能にする技術の一つが、ウェハー上に薄膜をつくる「真空薄膜形成技術(スパッタリング)」であり、創業時からの当社のコア技術でもあります。

 キヤノングループの持つ精密機器製造技術のポリシーを真空技術に融合することにより、IoT社会に要求される新たな付加価値の創生に取り組んでいます。
事業・商品の特徴 就職活動の必需品であるスマホやPCをはじめ、大画面ディスプレイやLED、ゲーム機器など、身の周りには数多くの電子製品があります。
 そこに搭載されている半導体やハードディスクドライブ(HDD)などのデバイスは、私たちが開発した装置で作ったものです。

 当社は最終製品ではなく、得意の「超高真空技術」「真空薄膜形成技術」を駆使して、電子部品等を作る製造装置のメーカーとして、確固たる地位を築いています。
 中でも真空コンポーネント製品は、真空技術を扱う装置に必要不可欠な部品・機器として、部品メーカーや研究開発機関のお客様に採用されています。
株主構成 キヤノン(株)100%
沿革 1967年10月 日本電気(株)と(米)バリアン社の合弁会社として日電バリアン(株)創立

1968年 1月 府中工場竣工

1975年 4月 本社を府中工場へ移転

1977年10月 (米)バリアン社との合弁契約解消

1978年 3月 RIE装置での業績により大河内記念技術賞を受賞

1979年11月 社名を日電アネルバ(株)に変更

1983年 4月 ・富士工場開設
                ・日電アネルバ・エンジニアリング(株)設立

1988年 3月 ECRプラズマによる薄膜加工装置の開発により2度目の大河内記念技術賞を受賞

1991年 2月 静岡アネルバ(株)設立

1993年 4月 富士第三工場竣工

1995年10月 ・日電アネルバ・エンジニアリング(株)と合併し、アネルバ(株)に社名を変更
                ・ISO-9001認証取得

1997年 7月 液晶注入装置がアドバンストディスプレイオブ・ザ・イヤー賞を受賞

1998年10月 ISO14001 認証取得

1999年 4月 アネルバテクノビジネス(株)を設立

2002年 7月 ・静岡アネルバ(株)を吸収合併
                ・中国上海に現地法人「安内華弘塑(上海)半導体設備有限公司」設立

2003年 1月 IAMS技術が第27回日本真空協会「真空技術賞」を受賞

2003年 5月 マスク製造用スパッタリング技術で第3回日本真空工業会「会長賞」を受賞

2003年10月 アネルバテクニクス(株)を設立

2005年 9月 日本電気グループよりキヤノングループへ株式(100%)移譲

2005年10月 社名をキヤノンアネルバ(株)に変更

2007年 8月 栗木新本社へ移転

2008年 8月 「超高密度HDDのための高性能トンネル磁気抵抗素子の開発」技術で「第6回産学官連携功労者表彰 
                内閣総理大臣賞」を受賞

2010年 2月 キヤノンアネルバエンジニアリング(株)、キヤノンアネルバテクニクス(株)と合併

2014年5月 NC7900 STT-MRAM量産向けスパッタリング装置が「半導体オブザイヤー2014」を受賞

2017年10月 創立50周年
気になるリストに追加しました
現在アクセスが集中しております。時間を置いてから再度お試しください
気になるリストの追加に失敗しました

ログイン・会員登録

ご利用にはログイン、または会員登録が必要になります。
会員の方はこちら
まだ会員でない方は
会員登録(無料)

この企業に注目している人は、他にこんな企業に注目しています

気になるリストに追加しました
現在アクセスが集中しております。時間を置いてから再度お試しください
気になるリストの追加に失敗しました
ログイン・会員登録
ご利用にはログイン、または会員登録が必要になります。
会員の方はこちら
ログイン
まだ会員でない方は
会員登録(無料)