株式会社NSC
エヌエスシー
2021
業種
化学
ガラス・セラミックス/半導体・電子部品・その他/精密機器/その他製造
本社
大阪

私たちはこんな事業をしています

当社この15年間、携帯電話ディスプレイに始まる中小液晶ディスプレイ基板の薄型化事業に注力し拡大してきました。取引先は国内・海外問わず有名企業多数で、ケミカル研磨事業においては、国内トップシェアを誇り、世界的に通用する技術を持っている企業です。また技術力UPをさらに加速させ、日本一から世界一の企業を目指しております。大阪から世界へ。液晶分野から他分野へ。ともに切磋琢磨し成長していきましょう。

当社の魅力はここ!!

事業・商品の特徴

【必ず一度は触れています、NSCの技術に】

生活の一部に浸透しているスマートフォンやタブレット端末、携帯ゲーム機器…。当社は、これらに使われている薄型ガラスの加工を行っています。より薄く、より強度に。そこに当社の培ってきた技術が活用されているのです。今では世界中のメーカーに認められ、これらの加工において、圧倒的なシェアを獲得しています。しかし、現状に満足することなく、「もっと付加価値をつけるためにはどうすればいいのか」、「他の業界でもこの技術を活かせないか」と日々研究中。みなさんが普段何回も触る、あのタッチパネルには当社の技術が詰まっています。

技術力・開発力

【1971年の創立以来、48期目を迎えた当社。】

1964年の創業以来、55期目を迎えた当社。社員数も650人を超え、豊中の町工場から始まった事業も大きな転換期を迎えています。取引先は大手企業、みなさんの手に触れる有名製品を扱う現状で満足することなく、既存の事業から次のステージで成長できるように、社内体制も変化。今年から新しく、海外展開を視野に入れ、既存国内市場だけでなくアジア諸国へと市場を開拓。新規事業開拓のために、当社独自の表面処理技術を活かし、セラミック・AG/AR・微細加工などの今まで手を伸ばしていなかった分野での事業展開も本格化。国内で培ったノウハウを世界へ、ガラス基板で培ったノウハウを他製品へと広げていきます!

社風・風土

【任せ、育てる会社へ変化】

国内の拠点を複数構え、各事業部によって任せられる仕事も多く複雑になっている中で、頑張った方には頑張った分だけ還元をしたいという思いは変わらないものの、どうやって成長をしていけばよいのかという指標を社員一人ひとりがもてるような体制に変化。働く社員がより働きやすくなるように制度を整えています。その結果、早くから役職に登用された若手管理職の活躍や、女性管理職の登用、文系理系問わず成長ができる環境など、新入社員のみなさんにも還元でき、そして成長していただける社風が整いつつあります。

会社データ

事業内容 液晶ガラス基板のケミカル研磨・加工・再生事業、排水処理事業
創業、設立 創業1964年2月、設立1971年3月
資本金 4,550万円
代表者 代表取締役 川久慶人
従業員数 約650名
本社所在地 大阪府豊中市利倉1-1-1
事業所 [本社] 大阪府豊中市
[工場・営業所] 大阪、石川、千葉
[現地法人] シンガポール
[駐在事務所] 台湾
売上高 149億円(2017年2月)
220億円(2016年2月)
175億円(2015年2月)
152億円(2014年2月)
主要取引先 国内外液晶パネル、ガラスメーカー様
主要取引銀行 三菱東京UFJ銀行、りそな銀行ほか
会社の方針 1.お客様への報恩感謝に基づく活動を通じて社会貢献する事を最優先行動規範とします。
2.市場ニーズの急速な変化に対応する為、常に新技術への革新を行い、世界一の技術、Only1の技術を追求して行動します。
3.作業安全と共に納入品質・納期の顧客満足を達成し、お客様への報恩感謝に基づいた相互信頼関係を構築します。
4.人と環境を大切にして、社会と共に発展しつつ、かけがえのない地球環境を守り、次世代に引き継ぎます。
会社沿革 ■昭和39年2月/ステンレス鋼専用酸洗剤の販売を開始。  
■昭和46年3月/「西山ステンレスケミカル株式会社」設立。
■昭和47年7月/ステンレス鋼専用酸洗剤「SUSクリーン」の開発に成功。  
■昭和61年3月/「クリーンブライト処理」(複合電解化学研磨法)が通産省(現 経済産業省)(財)研究開発型企業育成センターの技術審査に合格。
■平成8年3月/液晶ガラス基板再生処理工場新設。
■平成13年4月/液晶ガラス基板加工(薄型加工)事業の稼動開始。
■平成16年6月/シンガポール支店開設。
■平成20年3月/「株式会社NSC」に社名を変更。
■平成23年5月/台湾駐在事務所開設。
■平成23年11月/尼崎工場新設。
■平成24年4月/石川工場新設、シンガポール現地法人化。
■平成25年6月/茂原工場新設。
特許取得実績 ■平成8年7月/「液晶パネル用ガラス板の再生方法」の特許取得。  
■平成11年4月/「表面処理方法」の特許取得。  
■平成12年3月/「複合電解研磨方法」の特許取得。  
■平成14年9月/「マスキング剤」の特許取得。  
■平成14年9月/「ガラス板の再生方法、及びその装置」の特許取得。  
■平成16年2月/「ガラス基板の化学加工方法・化学加工装置及びガラス基板」の特許取得。  
■平成16年7月/「ガラスの切断分離方法、FPD用ガラス基板、及びFPD」の特許取得。  
■平成17年1月/「廃液の処理方法」の特許取得。  
■平成17年2月/「有機ELDパネルの製造方法、及び有機ELDパネル用ガラス基板の薄型化方法」の特許取得。  
■平成17年4月/「FPD用ガラス基板、及びその製造方法」の特許取得。  
■平成17年12月/「ガラス板表面の研磨方法、FPD用ガラス基板、及びFPD」の特許取得。  
■平成18年4月/「ガラス表面の加工方法」の特許取得。
■平成23年7月/「電子装置用ガラス基板及び電子装置の製造方法」の特許取得。
■平成24年4月/「ガラス基板の製造方法及びその装置」の特許取得。
■平成24年7月/「ホウフッ化リチウムの製造方法」の特許取得。
■平成24年7月/「ガラス基板の製造方法」の特許取得。
■平成25年8月/「太陽電池の製造方法」の特許取得。
■平成25年8月/「化学研磨装置」の特許取得。
■平成25年10月/「枚葉式化学研磨装置」の特許取得。
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