アリオス株式会社

オーエスジーグループ／製造（超高真空機器・プラズマ応用機器）

正社員

業種	半導体・電子部品・その他精密機器／機械
本社	東京

直近の説明会・面接	2024-04-23 15:00:00.0　【WEB説明会】研究開発を支えるアリオスの仕事をご紹介します！

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私たちはこんな事業をしています

私たちは超高真空技術とプラズマ技術の専門集団として、研究開発の第一線へ向けてさまざまな機器や装置の開発と提供を続けてきました。当社の製品は、半導体をはじめ自動車や医療、食品など身近な産業から宇宙開発まで、さまざまな分野の研究開発に役立てられています。お客様は、日本を代表するメーカー企業や国の研究機関、大学など。それぞれ異なる研究内容や要求に応じて、オーダーメイドの装置開発を手がけています。

当社の魅力はここ!!

戦略・ビジョン

50年の歩みを次世代へ～さまざまな業界のラボをサポート～

今では身の回りに当たり前にあるスマートフォンもパソコンも、基礎研究から長年の研究を経て実用化されました。そうした最先端の研究に必要な「研究用装置」をご提供しているのがアリオスです。特色は、決まった装置を何台もつくるのではなくお客様の研究内容によって毎回オーダーメイドで装置をつくっていること。私たちのキーテクノロジーである真空およびプラズマ技術はさまざまな産業の基盤技術なので、アリオスのお客様は特定の業界に偏っていません。ダイヤモンドCVD装置などを納める次世代半導体産業をはじめ、宇宙産業や自動車、医療機器、気象等、幅広い業界のお客様(民間企業、大学、研究所等)をサポートしています。

仕事内容

オーダーメイドの装置を、お客様と一緒につくりあげるやりがい

当社では、技術職の業務分担を「プロジェクト担当制」としています。仕様の打合せに始まり、開発、設計、組立、検査、アフターサービスまで全工程をプロジェクトの担当として自ら行うマルチエンジニア職です。営業職からフォローを適宜もらいつつお客様と密にコミュニケーションをとってオーダーメイドの装置を一緒に作り上げていくことで、ものづくりの醍醐味を味わうことができます。さらにユーザーの目的や使い方を熟知しているからこそ、研究開発にとどまらず「量産装置」までお付き合いが長くなることも増えています。お客様からいただく喜びの言葉は私たちの励みとなりさらなる成長へと繋がります。

技術力・開発力

人工ダイヤモンドへの挑戦など、オリジナル製品の開発にも注力

オーダーメイドの製品だけでなく、オリジナル製品の開発にも力を注いでいます。そのひとつが、人工ダイヤモンドの製造（成長）装置です。1950年代に人工ダイヤモンドの製造（成長）方法が発見されて以来、世界中で研究が進められ、宝石業界をはじめ、さまざまな業界から注目を集めています。なかでもダイヤモンドの特性を活かした次世代の究極の半導体開発には多くの期待が寄せられ、当社もその可能性に注目して研究開発を進めてきました。当社の装置はすでに世界最高レベルの成長速度を備えており、2011年にはダイヤモンド合成用CVD装置に関する特許も取得。高効率化・大面積化を目指し、引き続き研究開発を続けていきます。

みなさんにはこんな仕事をしていただきます

■技術職
真空・プラズマ技術の専門集団の一員として、機械設計および制御技術の分野で活躍していただくことを期待します。手がける製品は、超高真空機器・装置やプラズマ応用機器・装置、各種実験・計測用機器など。その多くはお客様とのやりとりを重ねて開発されるオーダーメイドの装置であり、日々の仕事はモノづくりの醍醐味にあふれています。また、当社の技術職は企画から納入・サポートまで一貫して携われる点も魅力です。

先輩社員にインタビュー

まだ世に出ていない技術に触れたい

会社データ

事業内容	真空技術・プラズマ技術の専門集団として、大学や研究機関、企業の研究開発に必要不可欠な「研究開発用装置」から生産現場で使われる「量産用装置」までさまざまなフェーズに最適な装置を提供しています。【事業内容】・超高真空機器・装置、プラズマ応用機器・装置、各種実験・計測用機器の設計・製造・販売・生産技術、生産用機器・装置、制御機器、システムの開発受託【製品紹介】 ▼装置　・超高真空排気装置・MBE装置・マイクロ波プラズマ実験装置・RFプラズマ実験装置・ダイヤモンド合成用MP-CVD装置、HFCVD装置・スパッタ装置(小型、中型、大型、粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置等) ・プラズマCVD装置・真空アニール装置・大気圧プラズマ実験装置・スペースチャンバー・エアロゾルサンプラー　・昇温脱離ガス分析装置　など ▼ユニット・グリッドレスイオン源・マイクロ波ラジカル源・マイクロ波イオン源・超小型マイクロ波プラズマ源・RFプラズマ源・小型RFプラズマ源・RFラジカルビーム源・分子線セル・EB蒸着源・E型電子銃・排気セット・導波管部品・同軸用スリースタブチューナー　など ▼コンポーネンツ・超小型回転導入機・ビューポートシャッター・ロードロックハッチ・簡易型XY機構・Zステージ・XYZステージ・トランスファーロッド・チャッキングトランスファー・タイミングリークバルブ・インターロックバルブ・超高真空チャンバー　など ▼分析・計測機器・シングルラングミュアプローブ・マルチポイントラングミュアプローブ・ビームフラックスモニター・RHEEDシステム・RHEEDスクリーン　など ▼サービス・オーダーメイド設計・メンテナンス・改造・各種装置移設・研究開発受託業務・コンサルティング　など
設立	1972年8月12日
資本金	9,900万円
従業員数	37名（2023年4月現在）
売上高	6億500万円（2022年11月実績）
代表者	代表取締役　鈴木浩明
事業所	■本社〒196-0021 東京都昭島市武蔵野3-2-20 ■東海営業所〒441-1231 愛知県豊川市一宮町宮前149 オーエスジー株式会社内
沿革	1972年／研究用機器の設計、製造、販売を主体として大誠産業株式会社を東京都調布市に設立 1980年／水素メーザ原子周波数標準器量子系開発 1985年／MBE装置関連事業開始 1988年／昭島市中神町に工場新設 1991年／資本金1500万円に増資 1992年／副標準電離真空計管球VS-1A開発 1993年／昭島市武蔵野に本社、工場を移転統合 1995年／CVD装置関連事業開始 2001年／アリオス株式会社に改名。「ARIOS」商標登録（登録番号：第4459794号）。東京都の中小企業経営革新計画承認 2002年／昭島市武蔵野3-2-20に移転し、フロア拡大 2003年／電離真空計に関する特許取得 2004年／環境マネジメントシステムISO14001認証取得 2006年／プラズマ源に関する特許取得。JST「先端計測分析技術・機器開発事業」に参画 2007年／JST「産学共同シーズイノベーション化事業」に採択 2008年／文部科学省「安全・安心科学技術プロジェクト」に採択。NEDO「エコイノベーション推進事業」に採択 2009年／大気圧プラズマ源に関する特許取得 2010年／窒化炭素の製造方法に関する特許取得。経済産業省「特定研究開発等計画」認定。「戦略的基盤技術高度化支援事業」に採択。JST「A-STEP (FS)シーズ顕在化タイプ」に採択 2011年／ダイヤモンド合成用CVD装置に関する特許取得 2012年／工場を増築し、社内設備の大幅改善を行なう 2013年／中小企業庁「ものづくり中小企業・小規模事業者試作開発等支援補助金」に採択。JST「A-STEP ハイリスク挑戦タイプ」に採択。マイクロ波化学反応装置に関する特許取得。ナノ粒子製造装置に関する特許取得 2014年／液中プラズマ処理装置に関する特許取得。窒化シリコン基板の作成方法に関する特許取得 2015年／愛知県岡崎市に東海営業所開設 2016年／JST「戦略的イノベーション創出推進プログラム」に参画 2017年／オーエスジー株式会社の連結子会社となる。愛知県豊川市に東海営業所を移転。「TAMAブランド」に認定 2020年／「令和3年度表面技術協会・技術賞」を受賞 2021年／「2021年度日本質量分析学会会誌賞」を受賞 2022年／創業50周年を迎える 2023年／2022年度JVIA表彰「真空装置部門賞」を受賞
主な納入先（順不同）	【官庁】宇宙航空研究開発機構、情報通信研究機構、理化学研究所、物質・材料研究機構、国立天文台、気象研究所、産業技術総合研究所、日本原子力研究開発機構、量子科学技術研究開発機構【大学】北海道大学、北海道科学大学、室蘭工業大学、東北大学、筑波大学、東京大学、東京工業大学、東京農工大学、電気通信大学、東京都立大学、早稲田大学、慶應義塾大学、上智大学、東京理科大学、工学院大学、日本女子大学、横浜国立大学、千葉工業大学、埼玉大学、埼玉工業大学、群馬大学、山梨大学、新潟大学、静岡大学、金沢大学、名古屋大学、豊田工業大学、名城大学、中部大学、京都大学、同志社大学、立命館大学、龍谷大学、大阪大学、大阪薬科大学、関西学院大学、近畿大学、奈良先端科学技術大学院大学、岡山大学、岡山理科大学、広島大学、山口大学、愛媛大学、九州大学、九州工業大学、長崎総合科学大学、福岡大学、佐賀大学、宮崎大学、鹿児島大学 ※民間企業は機密保持のため非公開
加盟団体	応用物理学会賛助会員日本表面真空学会法人会員日本真空工業会賛助会員ニューダイヤモンドフォーラム法人会員表面技術協会高機能トライボ表面プロセス部会昭島市環境配慮事業者ネットワーク会員ファブシステム研究会会員 TAMA産業活性化協会会員日本インターンシップ推進協会会員
許認可（登録）番号	ISO14001（2004年）