キヤノンアネルバ株式会社
キヤノンアネルバ
2021

キヤノンアネルバ株式会社

【キヤノングループ】メーカー/真空技術/産業機器/半導体/BtoB
業種
半導体・電子部品・その他
精密機器/機械/その他製造/重電・産業用電気機器
本社
神奈川

私たちはこんな事業をしています

当社は、「真空技術を駆使して未来を拓く」を合言葉に、キヤノングループの一員として、
豊かな社会づくりに貢献してきた総合電機メーカーやデバイスメーカーをお客様に、
半導体や磁気ヘッド、ハードディスク装置などの電子部品を製造するための
真空装置の開発・製造・販売および保守サービスを行っています。

当社の魅力はここ!!

戦略・ビジョン

キヤノングループの一員として、真空技術で未来を拓く

いま半導体製造の現場では、ナノメートル単位(10億分の1メートル)で微細加工を行っています。それを可能にする技術の一つが、ウェハー上に薄膜をつくる真空薄膜形成技術であり、創業時からの当社のコア技術でもあります。1970年代のIC誕生以降、PCの登場を受けてDRAM、MPUの製造をスタート、その後は液晶ディスプレイ、HDD、そしてモバイル機器への低消費電力APの製造と、常に時代の要求に対応し、かつ次代を見据えた真空薄膜製造装置を開発。2005年にはキヤノングループの一員となり、キヤノングループの持つ精密機器製造技術のポリシーを真空技術に融合することにより、IoT社会に要求される新たな付加価値の創生に取り組んでいます。

事業・商品の特徴

現代社会の生活に欠かせない製品を生み出す製造装置を開発・提供

就職活動の必需品、携帯電話やパソコンをはじめ、大画面ディスプレイやLED、PCゲームなど、いまや人々の身近な生活に欠かせない数多くの電子製品があります。そこに搭載されている半導体やハードディスクドライブ(HDD)などのデバイスが、私たちが開発した装置でつくったものです。当社は最終製品ではなく、得意の「超高真空技術」を駆使して、電子部品をつくる製造装置の開発・製造会社として、確固たる地位を築いているメーカーです。なかでも真空コンポーネントは、真空技術を扱う装置に必要不可欠な部品、機器として、薄膜製造をはじめとする多くの製造会社・研究開発機関のお客様に採用されています。

技術力・開発力

世界トップシェアを誇る独自技術で革新を起こす

超高真空技術が可能にする薄膜形成技術は、電子産業分野に様々な最先端の技術革新を起こしています。例えばメールやWeb、デジカメや音楽などの分野から、日増しに大容量化が求められたHDDの大容量化を実現させたのは、磁気ヘッドや磁気ディスクの生産装置で世界トップシェアを誇るキヤノンアネルバの独自技術だと言っても過言ではありません。また、当社技術陣と各研究機関と共同で新たな製造技術の開発に取り組むなど、常に最先端の研究・開発施設において最新の技術に触れながら、人々の豊かな社会実現に向けて技術力向上に努めています。

会社データ

事業内容 ●真空成膜加工装置製造・販売
  ・半導体製造装置
  ・ストレージデバイス製造装置
  ・電子部品製造装置
  ・研究開発・小規模生産装置

●真空コンポーネント製品製造・販売
  ・真空ポンプ
  ・真空計測機器・分析機器
  ・真空部品

●保守サービス
  ・装置、真空コンポーネント製品保守・改造
  ・保守部品販売
  ・部品洗浄
設立 1967年10月21日
資本金 18億円(キヤノン株式会社100%出資)
従業員数 1,133名(2017年12月31日現在)
売上高 283億円(2017年12月期)
代表者 代表取締役社長 酒井 純朗
事業所 本社/神奈川県川崎市
事業所/山梨県南都留郡鳴沢村
国内拠点/宮城県仙台市、長野県塩尻市、愛知県名古屋市、石川県金沢市、
     大阪府吹田市、広島県三原市、徳島県徳島市、熊本県熊本市
海外拠点/アメリカ、オランダ、ドイツ、UK、韓国、台湾、シンガポール、中国(上海)
沿革 1967年10月
 日本電気(株)と(米)バリアン社の合弁会社として日電バリアン(株)創立
1977年10月
 (米)バリアン社との合弁契約解消
1978年 3月
 RIE装置での業績により大河内記念技術賞を受賞
1979年11月
 社名を日電アネルバ(株)に変更
1983年 4月
 ・富士工場開設
 ・日電アネルバ・エンジニアリング(株)設立
1988年 3月
 ECRプラズマによる薄膜加工装置の開発により2度目の大河内記念技術賞を受賞
1995年10月
 ・日電アネルバ・エンジニアリング(株)と合併し、アネルバ(株)に社名を変更
 ・ISO-9001認証取得
1998年10月
 ISO14001 認証取得
2003年 1月
 IAMS技術が第27回日本真空協会「真空技術賞」を受賞
2003年 5月
 マスク製造用スパッタリング技術で第3回日本真空工業会「会長賞」を受賞
2003年10月
 アネルバテクニクス(株)を設立
2005年 9月
 日本電気グループよりキヤノングループへ
 株式移譲(キヤノン株式会社100%)
2005年10月
 社名をキヤノンアネルバ(株)に変更
2007年 8月
 栗木新本社へ移転
2008年 8月
 「超高密度HDDのための高性能トンネル磁気抵抗素子の開発」技術で
 「第6回産学官連携功労者表彰 内閣総理大臣賞」を受賞
2010年 2月
 キヤノンアネルバエンジニアリング(株)、キヤノンアネルバテクニクス(株)と合併
2017年10月
 創立50周年
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